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半导体含氟废水怎么处理方法|半导体含氟废水处理案例

业务底色 该制造业企业正规产量光电器件用高纯氟化氢和六氟化钨,工业废水氟溶液浓度特别高且成分表错综复杂。同一治理工学艺效用不稳定性,氟化物排放量经常超预算。成本项目成本2200万元构建专用治理安全设施,设计构思治理效率500吨/天。 废污水材质及原因 烟粉尘主要产自生育主设备拆洗和烟粉尘洗條: 氟阳离子氨水浓度:1500-3500mg/L 含硫酸钠根铁离子:2000-5000mg/L pH值:1- 含轻微钨、钼等轻金属物质 净化处理工艺制作工艺制作工艺 对於高酸度优点和缺点,采用了"中合+多级别放置+膜办理"施工工艺: 焦化废水处理工艺搜集整理池:进行分类搜集整理不一样的酸度焦化废水处理工艺 中合表现池:分第一阶段加药氢空气氧化的钠和氢空气氧化的钙,把控之后pH至7.5-8. 二沉池不良反应池:加药PAC和PAM强化乳浊液功能 斜管沉积池:效率固液区分 多物料进行过滤板:避开很小粒状 反渗整体:厚度脱盐和除氟 淤泥溶缩甩干机系统:离心力甩干后淤泥土石方工程专科处治 百度在线检测系统的:城市热力图追踪氟正离子渗透压和pH值 终极的效果 解决设计自动运行数据源: 浸水氟阳离子均衡有机废气浓度:2800mg/L 出液氟阴离子酸度:3.2mg/L(评均) 氟洗去率:99.9%及以上 水中水回用率:达标65% 程序自动的化层面高,实现了废水进行处理方法进行处理代价较低30%,年收购 氟化钙副品牌约400吨。

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