半导体加工废水怎么处理方法|半导体加工废水处理案例
的项目大环境
该封口试验厂设在珠四角东北部,一般加工BGA、QFP等集成型控制电路封口车辆。现在生产功能缩小,增加了废气净化治疗工艺净化治疗体统超供电量启动,且无发行之有效净化治疗转入的含氰废气净化治疗工艺。产品项目建设1200万块人民币实行整改,构思净化治疗功能800吨/日。
工业废水组成及来历
含氰废水处理方法:塑料电镀工艺程序生产,氰化物氨水浓度30-50mg/L;
高化工需氧量废水处理方法:基化工镀方法,化工需氧量盐浓度300-500mg/L;
巧妙废污水:打包封装用料擦洗制造,含硅胶粘合剂硅胶粘合剂等巧妙物;
酸碱性电镀废水:各繁琐流程洗涤水混合着而成。
治理的工艺具体流程
改良后的系统化利用"有机化学预正确补救+生物化正确补救+高层阳极氧化"艺规划:
含氰污废水 解决:
典型的含碱氯化法:分有级破氰,一级空气氧化反应ORP掌握在300-350mV,一级空气氧化反应ORP>600mV;
再线监测器:即时摄像头监控余氯和氰化物渗透压。
高化学需氧量电镀废水整理:
吹脱塔预治理:pH调至11,气水比3000:1,高锰酸盐指数彻底清除率70%;
短程硝化细菌细菌反硝化细菌细菌:控住DO在0.5mg/L以内,合理节省碳源25%。
综合管理工作模式:
电离过酸池:从而提高废液可血生化性;
碰触氧化物池:搭配组合填充料,气水比15:1;
便捷积淀池:斜管规整填料,从表面加热器端差1.0m³/(㎡·h)。
淬硬层治理 單元:
Fenton脱色:H2O2污泥脱水量200mg/L,Fe²⁺80mg/L;
生物工程抗逆性炭滤池:进一点的还原COD和亮度。
以后效果好
变革后设计操作可靠,留水COD<40mg/L、挥发酚<5mg/L、总氰化物<0.2mg/L,哪项公式不同于场所排放物标。吨水处里成本投入从居然的11.十元降到9.3元,年操作加盟费节俭约510万元。污泥干化存在量少30%,危险废物应急处置加盟费相同降低了。