某半导体器件手工制造企业公司因晶圆冲洗制作工艺制造含氨废水除理工艺，需水量200吨/天。废水除理工艺中除氟化物外还包含氟化物和微量分析血本属，除理难易度大。位置排出标准规定标准要求氟化物＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 废水处理方法基本成分及收入 晶圆难以清理污废水 （主要起源）：含氧化还原电位200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀工作污废水 ：含进样器铜、镍等巨资属，pH值下降大 CMP精磨生活污水：含硅颗粒剂及化学需氧量 进行处理新工艺过程 用于"化学物质悠长岁月中+膜拆分+折点氯化"团体的工艺： 预工作 ：污泥脱水CaCl2除氟，控住pH在7.5-8. 反渗透膜设备 ：我们要除0.01μm不低于细颗粒物物 反渗透设备性和浸提 ：将氧化还原电位溶缩至1000mg/L上 折点氯化 ：高精度操控氯添加量，将化学需氧量被转化为N2 阳离子对调 ：保障措施血本属合格 结果治疗效果 化学需氧量增强＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 天价属量不高于在线检测限 水造纸废水处理率达75% 淤泥引发量提高40%